질화물 반도체 제조 장치용 부재의 세정 방법, 및 질화물 반도체 제조 장치용 부재의 세정 장치

Nitride semiconductor fabrication device material washing method and nitride semiconductor fabrication device material washing device

Abstract

질화물 반도체 제조 장치를 구성하는 부재 중, 질화물 반도체를 포함하는 퇴적물이 부착된 질화물 반도체 제조 장치용 부재(13)의 세정 방법으로서, 염소계 가스를 포함하는 세정 가스에 의해, 질화물 반도체 제조 장치용 부재를 화학 처리하는 공정과, 승화성을 갖는 고체상 물질을 분사하여, 질화물 반도체 제조 장치용 부재(13)로부터 퇴적물을 제거하는 공정을 포함한다.

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